保護膜生產技術及使用方法

  　　為改變光學零件表面光學特性而鍍在光學零件表面上的一層或多層膜就是保護膜。
　　保護膜的特點是：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發生躍變，但在膜層內是連續的;可以是透明介質，也可以是吸收介質;可以是法向均勻的，也可以是法向不均勻的。這是因為制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射;膜層之間的相互滲透形成擴散界面;由于膜層的生長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性;膜層具有復雜的時間效應。
　　保護膜按應用分為反射膜、增透膜、濾光膜、光學保護膜、偏振膜、分光膜和位相膜。常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率，常用來制造反光、折光和共振腔器件。光學增透膜沉積在光學元件表面，用以減少表面反射，增加光學系統透射，又稱減反射膜。光學濾光膜用來進行光譜或其他光性分割，其種類多，結構復雜。光學保護膜沉積在金屬或其他軟性易侵蝕材料或薄膜表面，用以增加其強度或穩定性，改進光學性質。最常見的是金屬鏡面的保護膜。
　　◆ 保護膜的應用無處不在，從眼鏡鍍膜到手機，電腦，電視的液晶顯示再到LED照明等等，它充斥著我們生活的方方面面，并使我們的生活更加豐富多彩。
　　◆ 保護膜可分為幾何光學和物理光學這兩種形式的，幾何光學其實主要是通過光學器件表面形成的幾何狀的介質膜層，以使改變光路經來實現光束的調整或再分配作用;物理光學是將自然界中特有的光學材料元素通過納米處理至所需的光學器件表面形成的介質膜層，透過介質膜層的光學材料元素的特性增強於改變光偏振，透射，反射等功能。
　　◆ 通常保護膜的制備條件要求高而精，制備保護膜分干式制備法和濕式制備法，干式制備法( 含真空鍍膜：蒸發鍍，磁控濺鍍，離子鍍等)一般用於物理保護膜的制備，濕式制備法(含涂布法， 流延法，熱塑法等)一般用於幾何保護膜的制備。